研磨和抛光是样品制备过程的最后阶段，包括几个步骤。每个步骤使用比前一个更精细的磨料，最终目标是产生无变形，无划痕和高反射的样品表面。可能需要检查样品，蚀刻或未蚀刻，以揭示材料的微观结构。经常发生的是，材料中的对比仅在成功的蚀刻步骤之后才可见。
  
  在经典的单样品压力模式中，可以将多个不同尺寸的样品放置在样品载体中以同时研磨或抛光。在单一压力下，每个样品通过其自身的活塞压到研磨表面。
  
  电解抛光和蚀刻使用电化学过程在光学显微镜的帮助下对比相界。